Fabrication Method of Semiconductor Apparatus

반도체 장치 제조 방법

Abstract

본 기술의 일 실시예에 의한 반도체 장치 제조 방법은 반도체 기판 상에 소스 포스트가 구비된 절연막을 형성하는 단계 및 소스 포스트 및 절연막 상부에 반도체층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
The present invention relates to a method for fabricating a semiconductor apparatus. The method for fabricating a semiconductor apparatus according to one embodiment of the present invention includes: a step of forming an insulating layer on a substrate; and a step of forming a source post and a semiconductor layer in the upper part of the insulating layer. According to one embodiment of the present invention, the insulating layer includes the source post.

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